E2 비자 승인, 미국 텍사스 삼성전자 반도체 배관사

E2 비자 승인 사례 – 미국 텍사스 삼성전자 반도체 배관사

비자 유형: E2 직원 비자

근무지: 미국 텍사스주 삼성전자 반도체 플랜트

직종: 배관사

2025년 7월, 미국 텍사스에 위치한 삼성전자 반도체 플랜트 프로젝트에 참여할 예정인 고숙련 배관사께서

성공적으로 E2 직원 비자(E2 Employee Visa)를 승인받으셨습니다.

해당 신청자님은 한국 및 해외에서 다수의 반도체 및 배터리 플랜트 프로젝트에 참여한 풍부한 경력을 보유하고 있으며,

특히 고난이도의 배관 시공 분야에서 탁월한 실력을 입증받은 전문가입니다.

이번 미국 파견 근무는 그의 전문성과 경험을 인정받아 진행되었습니다.

일자: 2025년 7월 21일

장소: 미국 대사관(서울)

인터뷰어: 남성 영사

당일 E2 비자 신청자 수는 많지 않았지만, 인터뷰까지의 대기 시간이 길었고,

실제 인터뷰 시간도 상당히 길게 진행되었습니다. 비자 결과 확인까지는 일반적인 처리 시간보다 약 2시간 이상 더 소요되었습니다.

해당 인터뷰에서는 신청자의 직무관련하여 이전 프로젝트 참여 이력, 미국에서의 업무 내용 등

세부적인 사항에 대해 집중적으로 질문이 이어졌습니다.

특히, 신청자의 배관 기술 및 삼성전자 텍사스 플랜트 프로젝트와의 연관성에 대해 영사는 큰 관심을 보였습니다.

신청자님은 모든 질문에 성실하고 구체적으로 답변함으로써 전문성 및 파견 목적의 정당성을 효과적으로 입증하였고,

그 결과 인터뷰 직후 비자 승인이 즉시 이루어졌습니다.

최근 주한 미국 대사관에서는 비자에 대한 심사 강도가 높아지는 추세입니다.

특히, 인터뷰 시 철저한 검토가 이루어지고 있습니다.

그 결과, 적지 않은 신청자들이 인터뷰 후 거절 통보를 받는 경우도 늘고 있습니다.

까다로워진 심사 기준 속에서 체계적인 준비와 정확한 대응을 통해 승인 가능성을 높이는 것이 중요합니다.

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